潔凈室的溫濕度控制。潔凈實驗室高效安全的手術室空氣凈化系統(tǒng)，保證手術室的無菌環(huán)境，可以滿足器官移植、心臟、血管、人工關節(jié)置換等手術所需的高度無菌環(huán)境。采用高效低毒消毒劑，以及合理使用，是保障一般手術室無菌環(huán)境的有力措施。實驗室凈化確保手術臺潔凈度達標，一般多采用垂直層流式效果較好　層流手術室是一個"正壓"環(huán)境，其空氣壓力根據(jù)其不同區(qū)域（如手術間、無菌準備間、刷手間、麻醉間和周圍干凈區(qū)域等）潔凈度不同要求而不同。潔凈空間的溫度和濕度主要根據(jù)工藝要求確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮人們的舒適性。隨著空氣潔凈度要求的提高，對溫濕度的要求也越來越嚴格。

具體工藝的溫度要求將在后面列出，但作為一般原則，由于加工精度越來越精細，對溫度波動范圍的要求越來越小。例如，在大型集成電路產(chǎn)生的光刻曝光過程中，對玻璃和硅片作為掩模板材料的熱膨脹系數(shù)的要求越來越小。直徑100um的硅芯片，溫度增加1度，造成0.24um線性膨脹，因此必須有0.1度的恒定溫度，同時需要一般低的濕度值，因為出汗后，產(chǎn)品會受到污染，尤其是害怕鈉的半導體工場。這種車間不得超過25度。

高濕度的問題更多。當相對濕度超過55%時，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，冷卻水壁上的凝結(jié)會引起各種事故。相對濕度在50%時容易生銹。此外，當濕度過高時，硅片表面化學吸附的灰塵通過空氣中的水分子很難去除。相對濕度越高，去除膠粘劑的難度越大，但當相對濕度小于30%時，由于靜電的作用，顆粒很容易吸附在表面，大量的半導體器件容易分解。硅片生產(chǎn)的最佳溫度范圍為3545%。